最近实验室这边的饭已经有些吃腻了。 </p>
…… </p>
翌日。 </p>
器材被放入了净室之内。 </p>
因为最后一步抛光之后，硅片需要做最好的避尘措施，否则沾染了灰尘的话，很可能就会在涂抹光刻胶的环节将灰尘封锁在内。 </p>
到时候光刻时，数百微米的尘埃会阻碍纳米级的光刻技术。 </p>
苏芊和杨平换上了防尘服，在经过360度无死角的热烘之后，算是彻底清除了身上的尘埃，正式进入实验室。 </p>
很快，实验室开始了最后的实验——将硅片进行化学机械抛光。 </p>
几个科研人员调试好设备之后，从密封箱中拿出了一片硅片。 </p>
此时硅片的颜色还是略带暗沉。 </p>
将硅片固定到可以旋转的抛光仪器上，一切就准备完成了。 </p>
“实验开始。” </p>
中控室下达命令。 </p>
几个科研人员开始操作机器上的旋钮。 </p>
很快硅片就在卡槽内开始旋转起来。 </p>
其实这一步也属于打磨，只不过要在打磨之后完成抛光。 </p>
很快在三个刷头的研磨下，暗沉的硅片开始散发出了光泽！ </p>
几分钟后，硅片表面完全变成了一个非常完美的镜面！ </p>
抛光完成之后，涂胶机的触手吸住了硅片，将硅片放到了另一个卡槽里。 </p>
托盘开始旋转，光刻胶就从触手的吸盘处开始向外扩散。 </p>
一层黑色的光刻胶就均匀的涂抹在了硅片上。 </p>
因为做过倒角的原因，光刻胶非常均匀，而且边缘部分也没有沉淀！ </p>
检验这张12英寸晶圆的最好方法就是放入光刻机，直接进行光刻！ </p>
所以几乎是马不停蹄，晶圆被吸入了光刻机里。 </p>
经过几分钟的等待，一片光刻好的晶圆就诞生了。 </p>
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